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上海:《半导体行业污染物排放标准(征求意见稿)》

放大字体 缩小字体 发布日期:2021-03-07 22:00:05   浏览次数:29310

大气污染物 半导体行业 上海 

3 定义

下列术语和定义适用于本文件:

3.1

半导体行业 semiconductor industry

指从事利用半导体材料的特殊电特性制造,以实现特定功能的电子器件企业,包括分立器件和集成电路两大类产品。

3.2

现有企业 existing facility

本文件实施之日前通过环境影响评价审批或已经投产运行的半导体行业企业或生产设施。

3.3

新建企业 new facility

本文件实施之日起通过环境影响评价审批的新建、改(扩)建建设项目。。

3.4

标准状态 standard condition

温度为273.15K、压力为101325Pa时的状态。本文件规定的大气污染物排放浓度限值均以标准状态下的干气体为基准。

[DB31/933-2015,3.14]

3.5

直接排放 direct disge

排污单位直接或未经终端公共污水处理系统向环境水体排放水污染物的行为。

[DB31/199-2018,3.5]

3.6

间接排放 indirect disge

排污单位向公共污水处理系统排放水污染物的行为。

[DB31/199-2018,3.6]

3.7

挥发性有机物 volatile organic compounds

参与大气光化学反应的有机化合物,或者根据规定的方法测量或核算确定的有机化合物。

a) 用于核算或者备案的VOCs指20℃时蒸气压不小于10 Pa或者101.325 kPa标准大气压下,沸点不高于260℃的有机化合物或者实际生产条件下具有以上相应挥发性的有机化合物(甲烷除外)的统称。

b) 以非甲烷总烃(NMHC)作为排气筒、厂界大气污染物监控、厂区内大气污染物监控点以及污染物控制设施去除效率的挥发性有机物的综合性控制指标。

[DB31/933-2015,3.4]

3.8

非甲烷总烃 NON-methane hydrocarbon, NMHC

采用规定的监测方法,氢火焰离子化检测器有响应的除甲烷外的气态有机化合物的总和,以碳的质量浓度计。

[DB31/933-2015,3.15]

3.9

厂界大气污染物监控点 reference point for air pollutants at enterprise boundary

按照HJ/T 55 确定的厂界监控点,根据污染物的排放、扩散规律,当受条件限制,无法按上述要求布设监测采样点时,也可将监测采样点设于工厂厂界内侧靠近厂界的位置。

[DB31/933-2015,3.18]

3.10

厂界大气污染物监控点浓度限值 concentration limit at reference point for air pollutants at enterprise boundary

标准状态下厂界大气污染物监控点的大气污染物浓度在任何一小时的平均值不得超过的值,单位为mg/m3。

[DB31/933-2015,3.19]

4 水污染物排放控制要求

4.1 新建企业自本文件实施之日起,现有企业自202×年×月×日起,执行表1规定的水污染物排放限值。

4.2 新建和现有半导体行业污水集中处理设施运营单位自2024年1月1日起,按照表2监测废水的综合毒性,每年监测不少于一次,并将监测结果报送生态环境主管部门。该项目为指导性指标,运营单位根据监测结果采取相应的控制措施。

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5.1 有组织排放控制要求

5.1.1 新建企业自本文件实施之日起,现有企业自202×年×月×日起,执行表3规定的大气污染物排放限值。

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5.1.2 进入VOCs燃烧(焚烧、氧化)装置的废气需要补充空气进行燃烧、氧化反应的,排气筒中实测大气污染物排放浓度,应按式(1)换算成基准含氧量为3%的大气污染物基准排放浓度。

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进入VOCs燃烧(焚烧、氧化)装置的废气含氧量可满足自身燃烧、氧化反应,不需另外补充空气的(燃烧器需要补充空气助燃的除外),以实测浓度作为达标判定依据,但装置出口烟气含氧量不得高于装置进口废气含氧量。

5.1.3废气收集处理系统应与生产工艺设备同步运行。废气收集处理系统发生故障或检修时,对应的生产工艺设备应停止运行,待检修完毕后同步投入使用;生产工艺设备不能停止运行或不能及时停止运行的,应设置废气应急处理设施或采取其他替代措施。

5.1.4 新建项目应避免采用燃烧式预处理方式(POU)处理含氯废气。

5.1.5 为减少全氟化物(PFCs)排放对环境产生的影响,集成电路制造企业应制订PFCs排放的年削减计划,通过优化工艺、原料替代、循环利用、污染治理等措施减少PFCs的排放。

5.1.6 排放氯气、氰化氢、砷化氢、磷化氢的排气筒高度不低于25m,其他排气筒高度不低于15m(因安全考虑或由特殊工艺要求的除外),具体高度以及与周围建筑物的距离应根据环境影响评价文件确定。

5.1.7 企业内部有多根排放同一污染物的排气筒时,若两根排气筒距离小于其几何高度之和,应合并视为一根等效排气筒。若有三根以上的近距离排气筒,且均排放同一污染物时,应以前两根的等效排气筒,依次与第三、第四根排气筒取得等效值。等效排气筒的有关参数计算方法见附录A。

5.2 企业边界监控要求

5.2.2 新建企业自本文件实施之日起,现有企业自202×年×月×日起,企业边界任何1h大气污染物平均浓度应符合表4规定的限值。

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5.3 企业应按照HJ 944要求建立台帐,记录含VOCs原辅材料的名称、使用量、回收量、废弃量、去向以及VOCs含量。记录保存期限不得少于五年。

 

 
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