激光刻膜机_太阳能设备_

激光刻膜机_太阳能设备_的详细内容如下：设备性能 SDF(SSF)系列激光刻膜机采用半导体泵浦激光器(或全固态激光器)，光点固定不动，工作台带动电池板两维运动，或两维分离，光点沿X轴运动，电池板沿Y轴运动，刻膜专用X-Y工作平台，伺服驱动、滚珠丝杠与导轨传动，或X轴直线电机驱动，通过界面友好的专用控制软件，方便刻膜路径的编辑和修改，利用分光系统，同时完成两路或四路激光同步输出。应用领域 薄膜太阳电池TCO膜、a-Si膜（μc-Si膜）、Al膜（ZnO膜)的刻膜或划线。主要技术参数

规格型号	SDF50B	SDF10D	SSF10B	SSF5D
激光波长	1064nm	532nm	1064nm	532nm
激光功率	50W	10W	10W	5W
激光重复频率	200Hz～50kHz		1kHz～100kHz
刻膜线宽	80μm		50μm
刻膜速度	200mm/s		600mm/s
刻膜精度	±10μm		±10μm
工作台幅面	1250×640mm 或 1100×1400mm		1250×640mm 或 1100×1400mm
冷却方式	循环水冷		风冷

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