:等离子增强化学气相淀积(PECVD：Plasma Enhance Chemical Vapour Deposition),在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，减少反射，氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。
发布日期：2020-04-17 09:06:59
来源：新能源网 编辑：全球新能源网 浏览次数：354
:等离子增强化学气相淀积(PECVD：Plasma Enhance Chemical Vapour Deposition),在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜，以增加入射在硅片上的光的透射，减少反射，氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。
