引言
降低硅片表面反射率增加光吸收是多晶硅太阳能电池提高转化效率的一个重要方向。沉积减反射层（如SiNx）是一种可以有效减反射的方法，但表面制绒是一种更稳定和有效的减反射方法。在工业生产和实验研究中，单晶硅利用各向异性腐蚀在碱液中制绒，硅片表面形成金字塔状结构可以有效地降低硅片表面的光反射率。但是多晶硅晶向不规则，各向同性，不能在碱液中制绒，而是在酸溶液中制绒。制绒后的单晶硅反射率在11%左右，但多晶硅酸制绒后反射率在25%左右，反射光损失仍然很大。
为了进一步降低硅片表面的反射率尤其是多晶硅片，人们尝试了很多种制绒方法，在硅片表面制备纳米结构，硅片看上去是黑色的，这就是黑硅。Kontermann等人使用飞秒激光脉冲工艺制备出单晶黑硅太阳能电池。Dimitrov和Du采用化学方法在酸性Na2S2O8和AgNO3混合溶液中制作出随机的纳米级金字塔，转化效率高达17.5%。采用反应离子刻蚀和等离子体浸没离子注入方法也可以制作黑硅。Kumaravelu等人发现离子刻蚀会在纳米结构上产生缺陷且纳米结构会增加硅片的表面积，这些都会降低硅片表面少子寿命。所以需要消除黑硅表面的缺陷来优化电池的电性能。Lee等人采用反应离子刻蚀的方法制作出的黑硅太阳能电池，消除缺陷后电池效率高达16.32%，比传统酸制绒电池效率高0.7%。可见缺陷消除工艺可以大幅度提升黑硅太阳能电池的电性能。
本文中，为了研究缺陷消除工艺对黑硅太阳能电池电性能的影响，我们采用等离子体浸没离子注入方法制作了黑硅太阳能电池并做了几个不同缺陷消除工艺条件的实验对比。
2实验设计
本次试验使用的多晶硅片是156mm*156mm，P型掺杂，厚度为200±20μm。图1为多晶黑硅太阳能电池的生产流程。首先在80℃浓度10%的NaOH溶液中去除硅片表面机械损伤。随后采用等离子浸没离子注入的方法制绒。制绒时通入真空反应仓内的SF6/O2的流量比为3:1，使用的射频频率和功率分别是13.56MHz和900W，无直流偏压，刻蚀时间为4分钟。然后在23℃条件下使用不同的工艺条件（如表1）消除黑硅缺陷。所有的太阳能电池在825℃条件下，使用POCl3扩散。然后利用CF4和O2等离子体刻蚀硅片边缘40分钟。在体积分数10%的HF溶液中去除磷硅玻璃。采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)沉积厚度为80nm的SiNx。最后丝网印刷、烧结制作成电池。
采用扫描电镜（SEM）研究黑硅的微观形貌，采用带有积分球探测器的紫外可见近红外（UV-VIS-NIR）分光光度计测试黑硅表面的反射率，采用SolarCellScan100量子效应测试系统测试太阳能电池的IQE。
图1.多晶黑硅太阳能电池的生产流程
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