【关键词】: 光学设计 硅基薄膜电池 中间层 最佳折射率 最优厚度
【基金】:国家自然科学基金联合基金(U1037604)
【分类号】:TM914.4
【正文快照】:
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用VHF-PECVD技术研制大面积均匀硅基薄膜 薛俊明;侯国付;王凯杰;孙建;任慧志;张德坤;赵颖;耿新华;
关于硅基薄膜波导结构特性的研究 祖继锋
辉光功率对VHF-PECVD制备的硅基薄膜特性的影响(英文) 张晓丹,赵颖,朱锋,魏长春,孙建,侯国付,薛俊明,耿新华,熊绍珍
纳米硅基薄膜光致发光机制的初步研究 林璇英,姚若河,余楚迎,刘兴盛,林揆训,王洪,石旺舟
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光伏界的一次盛会 钟开源
反应溅射a-SiC_xN_y∶H薄膜特性 吴现成,王印月
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硅材料国家重点实验室
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