当前位置: 首页 > 专家说 > 太阳能 > 正文

晶体硅太阳能电池片扩散工艺现状及发展

关注热度:103
相关推荐 你可能关注 点击排行 我要评论

【专家解说】:现在很多企业在做高阻试验,可以降低复合中心,提高均匀性,提高效率,目前做的比较好的在60左右,也有人在尝试70,这种方式对烧结工艺有着很高的要求。 SE选择性扩散,此工艺可以提升单晶效率至18.5%左右,此工艺方法有很多种,但目的是一样,支持选择性扩散设备不多(今年估计国内回有批量做SE的),对栅线印刷很高,这有可能在设备成熟以后提高效率的一个大发展方向! HIT双面电池,这个是双面扩散,双面电池制作,效率可以提升至20%左右,但目前还没有厂家批量生产,成本高、制作工艺复杂,还停留在实验室研发! 当然,出了扩散外还有其他方法去提升效率。 个人见解、胡编乱造、万望指教!

进一步了解相关内容你可以在站内搜索以下相关问题

  • 晶体硅太阳能电池片扩散工艺现状及发展

进一步了解相关内容你可以在站内搜索以下相关关键词

晶体硅太阳能电池片    晶体硅太阳能电池板    非晶体硅太阳能电池    单晶体硅太阳能电池    多晶体硅太阳能电池    晶体硅太阳能组件    晶体硅太阳能    太阳能晶体硅片    
 

[ 专家说搜索 ]  [ 加入收藏 ]  [ 告诉好友 ]  [ 打印本文 ]  [ 违规举报 ]  [ 关闭窗口 ]
 
相关专家说推荐
 
0条 [查看全部]  相关评论
 
相关资讯
热门推荐
 
 
网站首页 | 联系我们 | 排名推广 | 广告服务 | 积分换礼 | 网站留言