【关键词】： Mo薄膜 磁控溅射 XRD SEM
【基金】：陕西省自然科学基金(101-221007) 陕西省重点学科建设专项资金
【分类号】：O484.1;TM914.42
【正文快照】：
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Ar气压强对直流脉冲磁控溅射制备Mo薄膜性能的影响 朱继国;丁万昱;王华林;张树旺;张粲;张俊计;柴卫平;
TFT-LCD制造用钼薄膜溅射及其靶材 赵宝华;范海波;孙院军;
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退火温度对磁控溅射制备的β-FeSi_2薄膜的影响 梁艳;谢泉;曾武贤;张晋敏;杨吟野;肖清泉;任雪勇;
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