环保：自2000年国家“十五”规划的行业鼓励性政策出台，中国芯片产业掀起一轮前所未有的投资热潮，全球著名的芯片厂商，如德州仪器、英特尔、AMD等，纷纷在中国建立合资或独资公司。然而关于芯片生产废水排放的国家和地方标准尚未出台。本文结合工程实例，通过调研分析得出最优工艺流程，并指出设备选型中应注意的问题。
1、废水分类与来源
集成电路芯片制造生产工艺复杂，包括硅片清洗、化学气相沉积、刻蚀等工序反复交叉，生产中使用了大量的化学试剂如HF、H2SO4、NH3·H2O等，废水的主要污染物分类和来源情况见表1。
2、废水处理工艺
根据生产废水的排放情况及各股废水的主要污染指标，将生产废水处理分为：含氨废水处理系统、含氟废水处理系统、CMP研磨废水处理系统及酸碱废水处理系统。
2.1含氨废水处理系统
含氨废水有两部分，一部分是浓氨氮废水，主要含氨氮和双氧水，氨氮浓度达400～1200mg/L；另一部分是稀氨废水，主要含氟化氨，氨氮浓度低于100mg/L。
2.1.1浓氨废水吹脱吸收工艺(见图1)
